半导体制造工艺对生产环境的洁净度要求极高,微小的颗粒、微量的离子污染都可能引发良率的大幅下降。半导体行业对超净布的需求,已从简单的擦拭工具转变为确保工艺稳定性和良率的关键耗材。
01、先进制程对超净布的要求
需满足十级及以上的洁净室标准,能够有效控制微粒释放,符合半导体制造等高精度行业对洁净度的严格要求。
严格控制钠(Na⁺)、氯化物(Cl⁻)等特定离子以及不挥发性残留物(NVR)的析出量,防止化学污染影响器件性能。
具有良好的吸液能力和污染物吸附效率;具备高强度、低发尘性和良好的耐磨性,确保在多次擦拭过程中纤维不易脱落。
能够耐受异丙醇(IPA)、乙醇、去离子水等半导体制造中常用的高纯度溶剂,保持性能稳定。
02、保视丽超净布的技术优势
区别于普通无尘布,保视丽超净布是专为半导体等高新电子行业升级打造的“超洁净”解决方案,凭借更优越的产品特性和创新的自主技术,更契合半导体先进制程需求。其优势体现在以下几点:
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卓越的微污染物控制:在Class10级无尘室中进行作业,使用超纯水清洗以有效去除离子残留;在工艺上,采用防纤维脱落工艺,结合热切、激光、超声波封边技术,防止边缘散屑。
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精准的静电压控制:保视丽防静电擦拭布由抗静电纤维与聚酯纤维编织而成,有效预防对纳米级电路的击穿,从而保障器件的良率。
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出色的吸液性能与物理结构:采用连续编织工艺,100%聚酯纤维或超细纤维,使超净布表面柔软,避免对晶圆及器件表面造成损伤。同时,其吸水性强,能够有效清洁器件。
03、超净布在半导体行业的应用
目前,保视丽已成为多家全球领先的晶圆代工厂的合格供应商。产品广泛应用于先进逻辑芯片、存储芯片制造线以及化合物半导体生产等关键制程环节,其性能与可靠性通过了客户的长期验证。其应用范围包括:
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精密部件清洁:在半导体制造过程中,超净布用于去除精密部件表面的微小颗粒、有机物残留及金属离子等杂质,确保其表面洁净。
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设备清洁:清洁半导体生产设备内部的灰尘、油污和金属碎屑等,防止设备运行过程中产生的污染物扩散到晶圆表面,影响产品质量。
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洁净室环境维护:定期擦拭洁净室的墙壁、地面、工作台等表面,维持洁净室的高洁净度,减少空气中悬浮颗粒的浓度,为半导体制造提供稳定的无尘环境。
保视丽致力于为半导体行业提供高性能、高可靠性的超净布产品。我们将持续投入研发与生产,严格遵循质量标准,以满足先进制程不断升级的洁净需求,成为客户值得信赖的合作伙伴。